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產(chǎn)品中心高溫熱處理爐CVD設備ZYE-1200-PEPECVD
PECVD
產(chǎn)品簡介
| 品牌 | 助研儀器 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),能源,綜合 | 加熱元件 | 北京首鋼HRE |
等離子化學氣相沉積-PECVD
為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區(qū)管式爐、三通道質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款設備用于生長納米線、石墨烯或SIC薄膜等
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植根合肥科技圈，安徽助研儀器有限公司以技術創(chuàng)新驅(qū)動，專注科研設備制造。技術源自高校成果轉(zhuǎn)化，核心團隊深耕十余年，為設備護航。
聚焦科研需求，研發(fā)制造高溫爐、催化劑評價等系列設備，覆蓋科研院所、實驗室及工業(yè)場景，提供定制化解決方案，加速科研進程。
以 “創(chuàng)新、品質(zhì)、服務” 為核心競爭力，構建選型、安裝到售后的全周期服務，致力成科研信賴伙伴。
盼與科研伙伴協(xié)同創(chuàng)新，共推設備升級、成果轉(zhuǎn)化，攜手發(fā)展。
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